Autodesk VRED Design 2021可以扶植用户快速渲染你的注册作品 
，当设计师设计模型以后就可以通过这款软件渲染，注册可以将Maya、注册3DSMAX的注册作品增补到这款软件渲染
，为用户裸露成品模型提供更快的注册渲染计划，这款软件功能很多 ，注册阴阳师外挂哪里找可以在软件编辑材质
，注册可以设置几何体、注册设置灯火、注册设置材料、注册设置场景  、注册设置相机 、注册设置贴图 ，注册为渲染配置一切内容
，注册这里小编推荐的注册就是Autodesk VRED Design 2021注册机 ，使用这款注册机就可以激活主程序 ，让用户可以免费使用主程序 ，如果你需要就下载吧 ！

新版功能

　　以下是VRED 2021产品中的新功能和增强功能：

　　VRED Go-将场景和查校验器打包为一个可执行文件 ，您可以将其存储在USB记忆棒中 ，然后让他人在没有许可证的情况下在任何计算机上查校验。VRED Go使用AES-256加密 ，并且永远不会提取场景数据 。结合密码，加密是非常安全的。

　　GPU光线跟踪 -为您的艰辛选择提供灵活性。使用“光线跟踪”下拉菜单，可以轻快地在CPU和GPU光线跟踪之间切换
 。您必须具有441.66或更高版本的NVIDIA驱动程序。

　　Autodesk Drive智能参考拥穿着 -提供一种在包含参考的项目中从任何位置铺开协作的计划 。将您的VPB拖到Autodesk Drive上的共享文件夹中 。它将自动碰见依赖项，例如引用，并上载项目和所有引用文件 。文件更新后 ，将触发通知 ，指示有可用更新 。

　　脚本编辑器集成 -将脚本编辑器功能增补到“变量集”模块的“脚本”选项卡和“脚本”首选项中  。

　　内容自适应着色 -设置每种材料的着色率，这对于具有轻易裸露莫尔效应的精细图案的材料很有用。这可以铺开微调。使用“内容自适应着色”可以以更高的阴阳师外挂处罚勾玉质量渲染特定的材质 。

　　getVariantSetPreview（name） -得到变体集预览（对于新的Web界面）为base64编码的字符串 ，类似于getViewpointPreview。

　　VRED设计中的次表面散射 -现在可以在VRED设计的“材质编辑器”中使用此选项，该选项可模拟光进入物体并在其表面下方散射的效果。用它来逼真的材质渲染，例如半透明的塑料
，大理石 ，皮肤，树叶 ，蜡和牛奶。使用这些类型的材料，并非所有的光城市从表面反射。其中一些会穿着透照明物体的表面。在那里，它将被物质吸收并在内部散布。这些散射光中的一部分会从表面返回 ，并被照相机校验到。

　　VRED流应用程序 -增补此应用程序是对VRED应用程序的改进
，以启用实时流式渲染图像。在首选项中激活WebInterface并打开VRED App后 ，将 localhost：8888用作校验器中的URL。

安装计划

　　1、下载以后解压Autodesk_VREDDES_2021_0_Enu_Win_64bit_dlm.sfx.exe，解压落成自动弹出安装引导界面 ，收受软件协议

　　2、如图所示，提示软件的安装地址设置 ，这里自己设置吧

　　3 、软件的安装进度界面
，等待安装落成就可以了

　　4、软件已经安装落成
，将软件界面隔绝

破解计划

　　1 、打开路径C:\Program Files (x86)\Common Files\Autodesk Shared\AdskLicensing，点击uninstall.exe把v10版本卸载
，双击就可以自动卸载，等待几秒钟，卸载落成再重启电脑；

　　2 、打开Crack破解文件夹 ，双击"adsklicensinginstaller-9.2.2.2501.exe"安装v9版本AdskLicensing；

　　3
、等待安装落成吧

　　4 、将电脑的阴阳师外挂哪里找网络禁用 ，避免官方检测到在线激活

　　5、打开安装落成的Autodesk_VREDDES_2021软件，点击输入序列号

　　6 、这里弹出协议内容，点击拥穿着

　　7、点击激活按钮进入序列号输入界面

　　8、如图所示，输入序列号【666-69696969】和密钥【885M1】 ，点击next；会提示接合网络出局，这时候点击上一步

　　9 、弹出这样的注册界面
，点击第二项激活软件

　　10 、复制软件界面显示的申请号到注册机激活

　　11 、打开您下载的xf-adesk20_v2.exe注册机，需要选择管理员身份运行 ，否则无法增补补丁
，点击patch就可以打补丁

　　12 、将申请号复制到第一栏，点击generate计算软件的注册码

　　13、将注册码复制到软件的注册界面就可以正常激活

　　14  、如图所示，现在软件已经激活落成

　　15 、打开软件就可以正常使用这款软件，软件界面显示资源管理器
，可以查校验渲染使用的几何体
、材质、环境

　　16、动画查校验功能，您可以通过软件底部的动画配置功能设计渲染动画

　　17
、渲染图像设置功能，可以调整图像尺寸预设、图像尺寸 、动画剪辑、格式
、起始帧、落成帧、帧步长、每秒帧数

常规Truelight材质设置

　　VRED中使用的许多Truelight材料共享属性 。

　　白炽

　　物体本身发出光的效果。白炽灯在需要照明物体而无需在场景中使用全光照物体的各种情况下非常有用。设置可用于对象，阴阳师外挂怎么办以影响其自身或周围场景的照明
。

　　强度

　　效果强度（范围-0-1000）。

　　颜色

　　光线的颜色。

　　使用纹理

　　启用使用纹理来根据纹理值控制效果的强度。

　　链接纹理设置

　　如果为材质的多个纹理插槽选择了此选项，则它们的纹理映射设置将链接在一起
。例如 ，当更改链接纹理的“重复UV”时 ，一次更改所有链接纹理的UV 。当为该材质选择此选项而该材质的其他纹理已经选择了链接选项时 ，该纹理设置将设置为已链接的纹理的设置。

　　根据材料的类型，设置选项可能会有所不同。对于轻便的Plastic和Phong常见材料 ，现在可以为使用纹理选择三种贴图类型：

　　映射类型

　　设置纹理的映射类型 。可以选择三种模式。

　　重复模式紫外线

　　设置纹理的重复模式。有四种模式 ：

　　重复

　　在所有方向重复纹理
。

　　镜子

　　每次重复时
，重复并镜像x和y轴上的纹理。

　　贴花

　　纹理不会重复。

　　钳

　　仅重复纹理的最后一个像素 。

　　对于UV贴图类型

　　重复紫外线

　　设置UV的重复次数。

　　胶印紫外线

　　设置UV的偏移量。

　　旋转

　　旋转UV。

　　对于平面映射类型

　　投影中心

　　可以在此处设置投影中心的坐标（x，y，z） 。

　　投影方向

　　提供倾斜投影平面的可能性
 。

　　投影尺寸

　　设置投影的大小。纹理默认为无限的投影深度，并覆盖整个对象 。您可以通过限制投影范围将纹理限制在对象的一侧。将投影尺寸的Z值从零（无穷大）更改为另一个值可实现限制。

　　保持长宽比例

　　如果选择 ，将自动调整与纹理的原始纵横比相对应的大小 。

　　旋转

　　设置投影平面在X / Y / Z轴上的旋转。

　　操纵

　　调整所选对象上的纹理
。按借宿Shift键并在操纵器上拖动以旋转，缩放或平移纹理 。拖动蓝色比例控件可调整纹理的阴阳师外挂处罚就会卖不了深度限制。

　　适合尺寸

　　将投影平面的大小调整为所选对象 。

　　对象中心

　　将投影中心调整到所选对象的中心。

　　对于三行映射类型

　　纹理尺寸X ，Y

　　在X / Y轴上定义纹理大小。

　　X重复UV，Y / UV ，Z / UV

　　设置每个投影方向的U轴和V轴的重复值 。

　　X偏移UV
，Y / UV
，Z / UV

　　为每个投影方向设置U和V轴的偏移值 。

　　X / Y / Z旋转

　　设置投影方向。

　　操纵

　　将纹理应用于所选表面 。

　　各向异性

　　设置图像纹理的纹理滤镜质量。值1是最低质量。值16是最高质量。

　　评估光线（仅光线追踪）

　　可以评估表面上的光线
。这用于观察射线文件的光线并使它在反射和折射中可见 。射线的起源应在要评估的表面上
。

　　用作光源（仅光线追踪）

　　光线追踪时，将该材质用作场景中其他材质的光源 。

　　照亮阴影材质

　　允许白炽灯的阴影材料 。将阴影材质的“反射模式”设置为“漫反射” ，“光泽”或“漫反射+光泽”
。

　　在阴影材质上投射阴影

　　由于材质的白炽灯照明 ，允许其他对象在阴影材质上投射阴影。

　　阴影强度

　　设置由几何体光源投射的阴影的强度。

　　重要性乘数

　　如果选择“用作光源”，则具有此材质的对象将用作几何光源。大于1的值会增补光源在光子映射处发射光子的可能性 。如果入射光来自外部环境，这对于内部暗光源很有用
。

　　互动/静止帧质量

　　在交互式/静止帧渲染期间控制照明并设置光采样质量 。

　　透明度设定

　　定义着色器的不透明度 。

　　校验穿着

　　使着色器透明。

　　反转纹理

　　反转纹理。

　　“常规Truelight材质设置-白炽度”部分介绍了“纹理”，“重复”，“偏移”，“旋转”和“各向异性”设置 。

　　地下散射

　　半透明和地下散射是两种计算穿着过对象背面进入观察者眼睛的光的不同计划。半透明所需的阴阳师外挂记录计算能力要低得多，而地下散射则提供了更多的可能性和更大的灵活性。

　　地下散射模拟光进入物体并在其表面下方散射的效果。用它来逼真的材质渲染 ，例如半透明的塑料 ，大理石，皮肤，树叶 ，蜡和牛奶。使用这些类型的材料，并非所有的光城市从表面反射。其中一些会穿着透照明物体的表面 。在那里，它将被物质吸收并在内部散布。这些散射光中的一部分会从表面返回 ，并被照相机校验到。

　　散射模式

　　半透明操作时有两种模式，具体取决于要投影的对象
：

　　没有

　　禁用地下散射。

　　薄壁半透明

　　在单面对象上模拟半透明，因此将地下渲染为从后面照亮的半透明对象。用于薄面物体，例如气泡，薄布，薄树叶 ，灯罩或从后面照亮的纸片。

　　它比固体半透明模式需要更多的计算时间，但是如果有疑问 ，请使用此模式 。

　　体积散射

　　模拟被稀薄均匀的大气散射的光
。这会裸露从几何对象投射的光轴和体积阴影。用于雾或烟。它适用于点光源 ，点光源 ，地方光源 ，矩形光源，球形光源 ，圆盘光源和定向光源 ，但不适用于射线 。

　　颜色

　　确定散射/半透明光的颜色 。

　　毛糙度

　　定义应用于半透明光的扩散量 。

　　散射模式次表面散射

　　物体避开侧面上的入射光会在所有方向上折射
。使用此模式，阴阳师外挂修改速度可以模拟蜡或其他半透明材料的行为 。有两种模式可用：

　　单次散射

　　允许光一旦在材料内部反弹，然后反射到外部。与多重散射相比 ，此模式准确性较低，但所需的计算时间较少
。

　　多重散射

　　使光在材料内部反射多次，然后反射到外部
。该模式更精确
，但是比单次散射需要更多的计算时间。

　　衰减

　　光在介质内部传播的距离取决于衰减值。值越高 ，介质内部吸收的光越多。

　　不对称

　　该值描述入射光的方向特性及其加权行为
。对于-1值，光沿着入射光路分布到避开的一侧。值为1时，光沿入射光路分布。值为0表示介质内部光的均匀分布。

　　选择中

　　根据实际存在的材料，提供多种折射率选择 。所选介质会自动影响折射率 。

　　折射率

　　定义光密度 ，因此定义了穿着过不同密度的材料时光的折射方式。

　　“ 白炽”部分介绍了“纹理”，“重复” ，“偏移”，“旋转”和“各向异性”设置 。

　　移位

　　位移图是详细的图，被解释为高度信息。浮点位移图可以使用实际值对正向和负向的位移铺开编码
。使用位移图，您可以使用普通图像从简易的几何图形创建高度详细的结构。使用地图的高度信息
，沿插值顶点法线移动几何图形上的每个点，从而裸露逼真的轮廓，裸露正确的阴影和反射 。精度受纹理图像分辨率的限制 ，并且内存需求较低。为了避免在位移的表面裸露裂纹，顶点法线应该平滑且一致。阴阳师外挂处罚2次使用更高的棋盘格化基础网格可以晋升性能
。

　　排量高度

　　定义位移值的比例因子 。

　　位移偏移

　　定义位移的偏移量。允许您设置纹理中零平面的值。零平面以下的值在几何内部移位
，零平面以上的值在几何外部移位。

　　在OpenGL中使用精确轮廓

　　此功能使您可以像在光线跟踪模式下一样在OpenGL中计算位移 。选择它可能会大大下滑性能。

　　使用纹理

　　加载漫反射颜色通道的图像纹理。将图像用作表面上的图案 。

　　链接纹理设置

　　如果为材质的多个纹理插槽选择了此选项  ，则它们的纹理映射设置将链接在一起 。例如，当更改链接纹理的“重复UV”时，一次更改所有链接纹理的UV。当为该材质选择此选项而该材质的其他纹理已经选择了链接选项时，该纹理设置将设置为已链接的纹理的设置 。

　　映射类型

　　选择平面贴图或UV贴图的类型。

　　重复模式紫外线

　　设置纹理的重复模式。有四种模式 ：

　　重复

　　在所有方向重复纹理 。

　　镜子

　　每次重复时，重复并在x和y轴上镜像纹理 。

　　贴花

　　纹理不会重复。

　　钳

　　仅重复纹理的最后一个像素。

　　对于UV贴图类型

　　您可以设置以下参数：

　　重复紫外线

　　设置UV的重复次数
。

　　胶印紫外线

　　设置UV的偏移量 。

　　旋转

　　旋转UV 。

　　对于映射类型平面

　　您可以设置以下参数：

　　投影中心

　　可以在此处设置投影平面中心的坐标（x，y，z） 。

　　投影方向

　　提供倾斜投影平面的可能性。

　　投影尺寸

　　设置投影的大小。

　　保持宽高比（复选框）

　　如果选中 ，则将自动调整与纹理的原始纵横比相对应的大小
 。

　　旋转

　　设置投影平面在X / Y / Z轴上的旋转。

　　操纵

　　将纹理应用于所选表面
。

　　适合尺寸

　　将投影平面的大小调整为所选对象
。

　　对象中心

　　将投影中心调整到所选对象的中心 。

　　光线追踪

　　这些设置仅在“光线跟踪”渲染模式下生效。

　　物料编号

　　在[0，31]的阴阳师自动挂机助手范围内设置材料的ID。

　　线管半径

　　定义将着色器应用于线几何体时的管的半径。

　　使用当地环境

　　如果选择，则在所有照明模式下
，将从分配给该材料的环境中计算出漫反射和光泽反射 。镜面反射由场景中存在的环境确定。

　　忽略光子贴图

　　在计算像素的照度时 ，选择此选项不包括光子贴图的光值。

　　替代照明模式

　　如果选择此设置
，则该设置将覆盖用于交互式或静态帧渲染的全局设置照明模式。

　　互动/静态框架

　　在“渲染视图”交互/静止帧渲染期间设置渲染质量模式和渲染质量级别。

　　预先计算

　　此模式不计算直接反射，也不计算折射或任何其他繁杂的视觉效果。

　　预计算+反射 -此模式与VRED OpenGL渲染模式相当
。它使用预先计算的环境光遮挡和间接照明铺开渲染，并计算镜面反射
 ，折射和校正光源的阴影 。

　　预先计算+阴影 -此模式使用预先计算的基于图像的照明和间接照明 ，但不使用预先计算的环境光遮蔽值 。而是根据活动环境计算阴影
。

　　预先计算+ IBL-此模式使用预先计算的间接照明并对环境铺开采样
。

　　全局照明 -全局照明模式不使用任何预先计算的值 ，而是以基于物理的计划精确地采样所有内容。其他功能（如“光子贴图”）要求将渲染模式设置为“完全全局照明”。

　　覆盖IBL采样质量

　　如果选择此设置 ，则该设置将覆盖对环境图铺开采样的全局IBL采样质量 。

　　互动/静态框架

　　在交互式/静止帧渲染期间设置IBL采样质量。

　　覆盖反射/折射采样质量

　　如果启用，该设置将覆盖反射/折射的整体采样质量 。

　　互动/静态框架

　　设置交互式/静止帧渲染期间的反射/折射采样质量。

　　覆盖行线深度

　　如果选择此设置，则该设置将覆盖用于交互式或静止帧渲染的全局设置照明模式。

　　互动/静态框架

　　在交互式/静止帧渲染期间设置跟踪深度。

　　共同

　　通用设置定义了所有BRDF材料中都存在的材料设置 。

　　遮挡颜色

　　设置着色器的预先计算的环境光遮挡颜色
。

　　遮挡强度

　　设置着色器的预先计算的环境光遮挡强度

　　缩减规模纹理（OpenGL）

　　缩减规模所有使用的纹理以节省磁盘空间 ，并有助于裁减大型场景中的内存需求。

　　排序键（OpenGL）

　　可以根据控制图纸透明面顺序的关键点将材料分类为组。

　　环境

　　右键单击以打开上下文菜单，以选择要用作光源的HDR图像。

　　照明模式

　　定义要用于着色器的灯光模型。有五种不同的阴阳师挂机辅助照明模型
 。

　　IBL +间接+直接照明

　　着色器受HDR图像，预先计算或交互的全局照明渲染以及场景中放置的直接光源的影响
。

　　IBL +间接

　　着色器受HDR图像以及预先计算或交互的全局照明渲染的影响
。

　　IBL +直射灯

　　着色器受HDR图像和场景中放置的直接光源影响。

　　国际劳工联盟

　　仅HDR图像会影响着色器。

　　直射灯

　　仅放置在场景中的直接光源会影响着色器。

　　可变速率阴影

　　重要
：

　　这是OpenGL特有的渲染功能 。

　　设置每种材质的明暗度，例如2x2粗化或4x超级采样。使用可变速率阴影来改变图像不同部分所需的筹备能力  。用户所校验的像素比其周围的任何像素都具有更高的分辨率，从而节省了筹备能力。可变速率阴影还可以提供更流畅的VR体验  。

　　对于具有轻易裸露波纹效应的精细图案的材料，例如带有锯齿状细线的碳或HMI纹理 ，请使用超采样阴影率 。如果您想得到更好的性能 
，请使用粗略的阴影率，此目的无其他用途。这两个都可以在VR和桌面模式下使用
。

　　例如
，所有材料均以自然着色率（每个像素1个样本）“正常”渲染 ，但碳材料应使用超采样（每个像素4个样本）铺开渲染。

　　同时使用凹入式渲染时，始终以其自定义阴影率渲染材质 。例如
，碳材料在整个屏幕上以及在凹入地方的外围使用4个样本铺开渲染。

　　关

　　禁用可变速率阴影。

　　1个样品

　　启用普通像素阴影的可变速率阴影，但与VRS隔绝没有视觉差异。

　　每4像素1个样本

　　为每4个像素1个样本的粗略像素阴影启用可变速率阴影 。

　　每16像素1个样本

　　为每16个像素1个样本的粗略像素阴影启用可变速率阴影。

　　2个样品

　　为每个像素2个样本的超采样像素阴影启用可变速率阴影 。

　　4个样品

　　为每个像素4个样本的超采样像素阴影启用可变速率阴影。

　　8个样品

　　为每个像素有8个样本的超采样像素阴影启用可变速率阴影。